納設智能首臺原子層沉積設備出貨

作者 | 發布日期 2024 年 01 月 22 日 10:43 | 分類 企業

2024年1月18日,納設智能在先進材料制造裝備領域邁出了重要一步——自主研發的首臺原子層沉積設備已經完成了所有生產和測試流程,順利出貨!

source:納設智能

原子層沉積(Atomic Layer Deposition,簡稱ALD)是一種薄膜沉積技術,可歸于化學氣相沉積大類。相對于一般化學氣相沉積,其具有獨特的表面自限制化學效應,因而可以逐個原子層生長各種化合物或單質薄膜材料,實現更精確的厚度控制。該技術制備的薄膜具有良好的的厚度均勻性,優異的一致性,突出的三維保型性,可用于各類襯底材料的薄膜沉積。

納設智能利用自身在半導體外延設備、化學氣相沉積技術等方面積累的經驗及軟硬件基礎,推出了規格更嚴、性能更優的ALD設備。
圖片

納設智能的ALD設備可對玻璃、硅片等襯底材料進行超薄氧化物、氮化物等材料的鍍膜,可以制備出均勻性好、保形性優、致密性佳的薄膜材料,可應用于對超薄薄膜(1nm~50nm)有需求的各個領域。

來源:納設智能

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